NEW [Wiki] Quang khắc là gì? Chi tiết về Quang khắc update 2021

Kính thưa đọc giả. Hôm nay, mình xin góp chút kinh nghiệm cá nhân về [Wiki] Quang khắc là gì? Chi tiết về Quang khắc update 2021 bằng bài viết [Wiki] Quang khắc là gì? Chi tiết về Quang khắc update 2021

Phần lớn nguồn đều được lấy ý tưởng từ các nguồn trang web lớn khác nên có thể vài phần khó hiểu.

Mong mỗi người thông cảm, xin nhận góp ý và gạch đá dưới phản hồi

Khuyến nghị:

Quý độc giả vui lòng đọc nội dung này ở trong phòng cá nhân để đạt hiệu quả cao nhất
Tránh xa toàn bộ những dòng thiết bị gây xao nhoãng trong việc tập kết
Bookmark lại nội dung bài viết vì mình sẽ cập nhật liên tục

Khắc sáng Đẹp quang khắc là một kỹ thuật được sử dụng trong công nghệ vật liệu và chất bán dẫn để sản xuất các bộ phận của vật liệu và linh kiện có hình dạng và kích thước xác định bằng cách sử dụng bức xạ ánh sáng để biến đổi các chất cảm quang. lớp phủ trên bề mặt để tạo ra hình ảnh mong muốn. Phương pháp này được sử dụng rộng rãi trong công nghiệp bán dẫn và vi điện tử, nhưng không cho phép tạo ra các chi tiết nhỏ do hạn chế của nhiễu xạ ánh sáng nên được gọi là phương pháp vi khắc. Một số sách giáo khoa ở Việt Nam cũng dịch thuật ngữ quang khắc được quang học thạch bản.


Kỹ thuật chụp ảnh quang khắc[sửa | sửa mã nguồn]

300px Photolithography 2

Các phương pháp phân vùng trong quang khắc: kỹ thuật liff-off (trái), kỹ thuật khắc (phải)

Quang khắc là một tập hợp các quá trình quang hóa nhằm mục đích thu được các hạt trên bề mặt của chất nền có hình dạng và kích thước xác định. Đó là, quang khắc sử dụng các phản ứng quang hóa để tạo ra các hình dạng.

Bề mặt của lớp nền sau khi xử lý bề mặt được phủ một hợp chất hữu cơ gọi là chất cản quang (thợ quang học), có đặc tính cảm quang (có nghĩa là, các đặc tính bị thay đổi khi tiếp xúc với bức xạ thích hợp), và ổn định trong môi trường kiềm hoặc axit. Keo cản quang có vai trò bảo vệ các chi tiết của vật liệu không bị ăn mòn dưới các tác động của ăn mòn hoặc tạo ra các đường rãnh theo hình dáng của chi tiết cần chế tạo. Chất cản quang thường được phủ trên bề mặt tấm bằng kỹ thuật tráng quay (lớp phủ spin).

Độ tương phản được phân thành hai loại

  • Độ tương phản dương: Là độ tương phản thay đổi sau khi ánh sáng chiếu vào, nó sẽ bị hòa tan trong dung dịch rửa.
  • Chất cản quang âm tính: Là độ tương phản thay đổi sau khi ánh sáng chiếu vào nó, nó không bị hòa tan trong dung dịch rửa.

(Xem chi tiết tại bài In thạch bản chùm tia điện tử).


Nguyên lý của quang khắc[sửa | sửa mã nguồn]

300px Photolithography 1

Nguyên lý của quang khắc

Hệ thống quang khắc bao gồm một nguồn cực tím, được khuếch đại và sau đó chiếu qua một bình quang. Mặt nạ là tấm chắn sáng được in trên đó các chi tiết cần tạo (bóng mờ) để ngăn ánh sáng đi vào vùng cảm quang, tạo ảnh của chi tiết cần tạo trên cảm quang biến thiên. Sau khi chiếu qua mặt nạ, bóng của chùm sáng sẽ có hình dạng của bộ phận cần tạo, sau đó được một hệ thấu kính hội tụ hội tụ trên bề mặt tấm phủ cảm quang.


Các ứng dụng của quang khắc[sửa | sửa mã nguồn]

Quang khắc là một kỹ thuật đã được phát triển từ đầu thế kỷ 20, và được sử dụng rộng rãi nhất trong ngành công nghiệp bán dẫn để chế tạo mạch điện tử trên tấm Si. Ngoài ra, quang khắc còn được sử dụng trong khoa học và công nghệ vật liệu để chế tạo các bộ phận vật liệu nhỏ và sản xuất các thành phần vi cơ điện tử (MEMS). Hạn chế của kỹ thuật in thạch bản là do ánh sáng bị nhiễu xạ, không thể hội tụ chùm sáng xuống kích thước rất nhỏ nên không thể chế tạo các chi tiết có kích thước nano (độ phân giải của thiết bị in thạch bản tốt nhất). là 50 nm), vì vậy khi chế tạo các chi tiết nhỏ ở mức nanomet, người ta phải thay thế nó bằng phương pháp in thạch bản chùm điện tử (phương pháp in thạch bản chùm tia điện tử).


xem thêm[sửa | sửa mã nguồn]


Tham khảo[sửa | sửa mã nguồn]


liện kết ngoại[sửa | sửa mã nguồn]

  • Photolithography tại Đại học Glasgow, Vương quốc Anh

Nguồn tổng hợp

Xem thêm bài viết thuộc chuyên mục: Đảo và Cù Lao

Leave a Comment